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关于规范台湾居民参加2011年全国专利代理人资格考试有关事项的公告(第163号)

2017-12-13 16:28:00
来源:国家知识产权局
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    为规范台湾居民参加2011年全国专利代理人资格考试,根据《专利代理条例》、《专利代理管理办法》、《专利代理人资格考试实施办法》和《专利代理人资格考试考务规则》,现就相关事项公告如下:

  一、报 名

  (一)报名条件

  具有台湾地区居民身份,并且符合下列条件的台湾居民可以报名参加全国专利代理人资格考试:

  1. 18周岁以上,具有完全民事行为能力;

  2.高等院校理工科专业毕业或者具有同等学历;

  3.熟悉专利法和有关的法律知识;

  4.从事过两年以上科学技术工作或者法律工作。

  “高等院校理工科专业毕业或者具有同等学历”是指具有大陆高等院校理工科学历,或者经教育部留学服务中心认证的台湾、香港、澳门地区高等院校或者外国高等院校理工科学历。

  (二)报名查验时间、方式和考点

  1.报名查验时间:2011718日至85日。

  2.报名查验方式:报名人员可以自己或者委托他人携带相关材料在报名期间内前往福州考点进行现场报名和查验。

  3.考点:福建省福州考点。

  (三)报名查验材料

  报名人员应当向福州考点提交下列材料:

  1.《台湾居民参加2011年全国专利代理人资格考试报名表》一式两份(下载网址:http://www.sipo.gov.cn);

  2.“台湾居民来往大陆通行证”和“台湾居民身份证”原件及其复印件一式两份;

  不能提交“台湾居民来往大陆通行证”的,应当提交台湾居民身份证和户籍誊本或者户口名簿;提交户籍誊本或者户口名簿复印件的,应当同时提交经台湾地区公证机构公证的公证书及其复印件;

  3.理工科学历证书原件及其复印件一式两份;

  持台湾、香港、澳门地区高等院校或者外国高等院校学历证书的,应当同时提交经教育部留学服务中心出具的理工科学历认证证明及其复印件;

  4.工作证明原件一份;

  5.本人近期一寸彩色免冠照片三张。

  台湾居民委托他人进行报名的,除提交上述材料外,还应当提交受托人的有效身份证明原件及其复印件一式两份和报名人员出具的经台湾地区公证机构公证的委托书。

  必要时,报名人员应当提交其他证明材料。

  (四)报名费用

  报名人员应当根据福州考点的要求缴纳考试报名费。

  二、考 试

  (一)考试日期

  2011年全国专利代理人资格考试定于2011115日至6日举行。

  (二)考试地点

  符合报名条件,经查验合格获准参加考试的报名人员应当于2011114日持“台湾居民来往大陆通行证”前往福州考点报到,领取准考证(主证、副证)并参加考试,逾期无效。

  (三)考试科目、时间和方式

  全国专利代理人资格考试实行全国统一命题,命题范围以《2011年全国专利代理人资格考试大纲》为准。

  考试分为三门科目,各科目名称和考试时间安排如下:

  专利法律知识:115日上午9001100

  相关法律知识:115日下午14001600

  专利代理实务:116日上午9001300

  考试采取闭卷方式进行。专利法律知识和相关法律知识两门科目采用填涂机读答题卡方式,专利代理实务科目采用论述答题和实际撰写方式。

考试试题采用简体汉字,应试人员可以使用繁体汉字作答,答题时应当使用国家法律、法规和规章所使用的专业术语。

  (四)考试准备

  应试人员可以依据专利代理人考核委员会办公室编写的《2011年全国专利代理人资格考试指南》进行复习、备考。

  关于全国专利代理人资格考试的有关规定和信息,可以查询国家知识产权局政府网站(http://www.sipo.gov.cn)。

  三、录取及证书发放

  阅卷工作结束后,国家知识产权局在其政府网站上公布考试成绩,应试人员可以通过输入“台湾居民来往大陆通行证”号码和准考证号码查询本人考试成绩。

  考试合格分数线确定后,成绩合格的应试人员应当根据国家知识产权局公告的时间,本人持报名时提交的有效身份证件前往福州考点领取《专利代理人资格证书》。

  四、取得《专利代理人资格证书》后的执业

  (一)取得《专利代理人资格证书》的台湾居民在大陆已经批准设立的专利代理机构中实习满一年,并符合其他执业条件的,可以申请领取《专利代理人执业证》,在大陆已经批准设立的专利代理机构中执业;

  (二)取得《专利代理人资格证书》的台湾居民获准在大陆已经批准设立的专利代理机构中执业的,在符合规定条件的情况下可以加入成为在大陆已经批准设立的专利代理机构的合伙人或者股东;

  (三)关于取得《专利代理人资格证书》的台湾居民在大陆已经批准设立的专利代理机构中执业的具体办法另行制定。

  特此公告。 

中华人民共和国国家知识产权局 

二○一一年六月二十一日 

[责任编辑:刘畅]

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